တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းကိရိယာများတွင် ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်အသုံးပြုမှုကား အဘယ်နည်း။
2023-07-15
ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ် (Si3N4)၎င်း၏ထူးခြားသောလျှပ်စစ်၊ အပူနှင့်စက်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများကြောင့်တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးကိရိယာများတွင်အသုံးများသောဒြပ်ပေါင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးတာနည်းပညာတွင် ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်၏ အဓိကအသုံးပြုမှုအချို့မှာ အောက်ပါအတိုင်းဖြစ်သည်။
1. Gate Insulator:ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်metal-oxide-semiconductor (MOS) စက်ပစ္စည်းများတွင် gate insulator material အဖြစ် မကြာခဏအသုံးပြုသည်။ ၎င်းသည် သတ္တုတံခါးလျှပ်ကူးပစ္စည်းနှင့် အရင်းခံဆီလီကွန်အလွှာကြားတွင် ဒိုင်လျှပ်စစ်အလွှာအဖြစ် လုပ်ဆောင်ပြီး လျှပ်စစ်အထီးကျန်မှုကို ပေးသည်။ ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်သည် မြင့်မားသော dielectric ကိန်းသေ (relative permittivity) ရှိပြီး လျှပ်စစ်စီးကြောင်းစီးဆင်းမှုကို ထိထိရောက်ရောက် တားဆီးသည်။ ၎င်း၏ အလွန်ကောင်းမွန်သော လျှပ်ကာဂုဏ်သတ္တိများသည် စက်ပစ္စည်းအတွင်း အားသွင်းစီးဆင်းမှုကို ထိန်းသိမ်းရန် ကူညီပေးသည်။
2. Passivation- ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်ကို ပြင်ပညစ်ညမ်းမှု၊ အစိုဓာတ်နှင့် ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ ထိခိုက်မှုတို့မှ ကာကွယ်ရန် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းတွင် passivation အလွှာအဖြစ် အသုံးပြုလေ့ရှိသည်။ ၎င်းသည် အညစ်အကြေးများ ပျံ့နှံ့မှုကို တားဆီးကာ၊ လက်ရှိ ယိုစိမ့်မှုကို လျှော့ချပေးပြီး အိုင်းယွန်း ရွှေ့ပြောင်းခြင်းမှ အကာအကွယ် အတားအဆီးကို ပံ့ပိုးပေးခြင်းဖြင့် စက်၏ ရေရှည်ယုံကြည်စိတ်ချရမှုနှင့် တည်ငြိမ်မှုကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။
3. Diffusion Barrier- စီလီကွန်နိုက်ထရိတ်သည် အိမ်နီးချင်းအလွှာများမှ မလိုလားအပ်သော အညစ်အကြေးများ သို့မဟုတ် အညစ်အကြေးများ ပျံ့နှံ့မှုကို တားဆီးရန် အတားအဆီးအလွှာအဖြစ် လုပ်ဆောင်နိုင်သည်။ ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ စက်ပစ္စည်းတစ်ခု၏ မတူညီသောဒေသများကို ခွဲထုတ်ရန်၊ မလိုလားအပ်သော အပြန်အလှန်တုံ့ပြန်မှုများကို တားဆီးကာ သင့်လျော်သောလုပ်ဆောင်နိုင်စွမ်းကို သေချာစေရန် ၎င်းအား အသုံးချနိုင်သည်။
4. Etch Mask- ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်သည် ဆီကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်သည့်လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အသုံးများသော etchants အများအပြားကို ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။ ရှုပ်ထွေးသော စက်ဖွဲ့စည်းပုံများကို ဖန်တီးရန် သို့မဟုတ် နောက်ဆက်တွဲ လုပ်ဆောင်ခြင်းအဆင့်များအတွက် ပုံစံများကို သတ်မှတ်ရန် ၎င်းကို ပုံစံချပြီး ရွေးချယ် ထွင်းထုနိုင်သည်။ ၎င်း၏ etch resistance သည် အမျိုးမျိုးသော lithography နှင့် etching လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် etch mask သို့မဟုတ် hard mask အဖြစ် အသုံးပြုရန်အတွက် စံပြပစ္စည်းတစ်ခု ဖြစ်စေသည်။
5. MEMS နှင့် အာရုံခံကိရိယာများ- ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်သည် မိုက်ခရိုအီလက်ထရွန်းနစ်စက်စနစ် (MEMS) နှင့် အာရုံခံကိရိယာဆိုင်ရာ အပလီကေးရှင်းများတွင် ကျယ်ပြန့်စွာအသုံးပြုသည်ကို တွေ့ရှိရသည်။ မြင့်မားသော မာကျောမှု၊ ခိုင်ခံ့မှုနှင့် ဝတ်ဆင်ရန် ခံနိုင်ရည်တို့ အပါအဝင် ၎င်း၏ အလွန်ကောင်းမွန်သော စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဂုဏ်သတ္တိများက ၎င်းကို မိုက်ခရိုဆင်ဆာများနှင့် မိုက်ခရိုအက်စစ်ကိရိယာများတွင် တည်ဆောက်ပုံဆိုင်ရာ ပစ္စည်းအဖြစ် အသုံးပြုရန် သင့်လျော်စေသည်။
ခြုံ၊ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ စက်ပစ္စည်းများ၏ ဒီဇိုင်း၊ ဖန်တီးမှုနှင့် စွမ်းဆောင်ရည်တို့တွင် အရေးကြီးသော အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပြီး ၎င်းတို့၏ လျှပ်စစ်အထီးကျန်မှု၊ ကာကွယ်မှု၊ နှင့် စက်ပစ္စည်းလက္ခဏာများကို မြှင့်တင်ပေးသည်။ ၎င်း၏ဂုဏ်သတ္တိများက ၎င်းအား ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းတွင် စွယ်စုံရနှင့် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုသည့်ပစ္စည်းတစ်ခုဖြစ်စေသည်။
1. Gate Insulator:ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်metal-oxide-semiconductor (MOS) စက်ပစ္စည်းများတွင် gate insulator material အဖြစ် မကြာခဏအသုံးပြုသည်။ ၎င်းသည် သတ္တုတံခါးလျှပ်ကူးပစ္စည်းနှင့် အရင်းခံဆီလီကွန်အလွှာကြားတွင် ဒိုင်လျှပ်စစ်အလွှာအဖြစ် လုပ်ဆောင်ပြီး လျှပ်စစ်အထီးကျန်မှုကို ပေးသည်။ ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်သည် မြင့်မားသော dielectric ကိန်းသေ (relative permittivity) ရှိပြီး လျှပ်စစ်စီးကြောင်းစီးဆင်းမှုကို ထိထိရောက်ရောက် တားဆီးသည်။ ၎င်း၏ အလွန်ကောင်းမွန်သော လျှပ်ကာဂုဏ်သတ္တိများသည် စက်ပစ္စည်းအတွင်း အားသွင်းစီးဆင်းမှုကို ထိန်းသိမ်းရန် ကူညီပေးသည်။
2. Passivation- ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်ကို ပြင်ပညစ်ညမ်းမှု၊ အစိုဓာတ်နှင့် ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ ထိခိုက်မှုတို့မှ ကာကွယ်ရန် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းတွင် passivation အလွှာအဖြစ် အသုံးပြုလေ့ရှိသည်။ ၎င်းသည် အညစ်အကြေးများ ပျံ့နှံ့မှုကို တားဆီးကာ၊ လက်ရှိ ယိုစိမ့်မှုကို လျှော့ချပေးပြီး အိုင်းယွန်း ရွှေ့ပြောင်းခြင်းမှ အကာအကွယ် အတားအဆီးကို ပံ့ပိုးပေးခြင်းဖြင့် စက်၏ ရေရှည်ယုံကြည်စိတ်ချရမှုနှင့် တည်ငြိမ်မှုကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။
3. Diffusion Barrier- စီလီကွန်နိုက်ထရိတ်သည် အိမ်နီးချင်းအလွှာများမှ မလိုလားအပ်သော အညစ်အကြေးများ သို့မဟုတ် အညစ်အကြေးများ ပျံ့နှံ့မှုကို တားဆီးရန် အတားအဆီးအလွှာအဖြစ် လုပ်ဆောင်နိုင်သည်။ ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ စက်ပစ္စည်းတစ်ခု၏ မတူညီသောဒေသများကို ခွဲထုတ်ရန်၊ မလိုလားအပ်သော အပြန်အလှန်တုံ့ပြန်မှုများကို တားဆီးကာ သင့်လျော်သောလုပ်ဆောင်နိုင်စွမ်းကို သေချာစေရန် ၎င်းအား အသုံးချနိုင်သည်။
4. Etch Mask- ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်သည် ဆီကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်သည့်လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အသုံးများသော etchants အများအပြားကို ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။ ရှုပ်ထွေးသော စက်ဖွဲ့စည်းပုံများကို ဖန်တီးရန် သို့မဟုတ် နောက်ဆက်တွဲ လုပ်ဆောင်ခြင်းအဆင့်များအတွက် ပုံစံများကို သတ်မှတ်ရန် ၎င်းကို ပုံစံချပြီး ရွေးချယ် ထွင်းထုနိုင်သည်။ ၎င်း၏ etch resistance သည် အမျိုးမျိုးသော lithography နှင့် etching လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် etch mask သို့မဟုတ် hard mask အဖြစ် အသုံးပြုရန်အတွက် စံပြပစ္စည်းတစ်ခု ဖြစ်စေသည်။
5. MEMS နှင့် အာရုံခံကိရိယာများ- ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်သည် မိုက်ခရိုအီလက်ထရွန်းနစ်စက်စနစ် (MEMS) နှင့် အာရုံခံကိရိယာဆိုင်ရာ အပလီကေးရှင်းများတွင် ကျယ်ပြန့်စွာအသုံးပြုသည်ကို တွေ့ရှိရသည်။ မြင့်မားသော မာကျောမှု၊ ခိုင်ခံ့မှုနှင့် ဝတ်ဆင်ရန် ခံနိုင်ရည်တို့ အပါအဝင် ၎င်း၏ အလွန်ကောင်းမွန်သော စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဂုဏ်သတ္တိများက ၎င်းကို မိုက်ခရိုဆင်ဆာများနှင့် မိုက်ခရိုအက်စစ်ကိရိယာများတွင် တည်ဆောက်ပုံဆိုင်ရာ ပစ္စည်းအဖြစ် အသုံးပြုရန် သင့်လျော်စေသည်။
ခြုံ၊ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ စက်ပစ္စည်းများ၏ ဒီဇိုင်း၊ ဖန်တီးမှုနှင့် စွမ်းဆောင်ရည်တို့တွင် အရေးကြီးသော အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပြီး ၎င်းတို့၏ လျှပ်စစ်အထီးကျန်မှု၊ ကာကွယ်မှု၊ နှင့် စက်ပစ္စည်းလက္ခဏာများကို မြှင့်တင်ပေးသည်။ ၎င်း၏ဂုဏ်သတ္တိများက ၎င်းအား ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းတွင် စွယ်စုံရနှင့် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုသည့်ပစ္စည်းတစ်ခုဖြစ်စေသည်။
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy